等離子去膠機
去膠工藝是微加工過程中一個重要的過程，在電子束曝光，紫外曝光等微納米加工工藝后，都要對光刻膠進行去除或打底膜處理。光刻膠是否去除干凈對樣片是否有損傷等問題，將直接影響后續工藝的順利完成。PLUTO-MD使用性能出色的組件和軟件，可對工藝參數進行精確控制。它的工藝監測和數據采集軟件可實現嚴格的質量控制。該技術已經成功的應用于功率晶體管、模擬器件、傳感器、光學器件、光電、EMS/MOEMS、生物器件、LED等領域。
武漢賽斯特精密儀器有限公司是武漢市專業研發，以力學試驗機儀器為主，同時銷售各種、中低端分析儀器。現有員工60多人，公司成功開發了PCI放大采集卡和中文版試驗軟件，并采用全數字化，操作簡捷，*符合GB、ISO、JIS、ASTM、DIN等標準、國家標準、行業標準的要求，公司亦通過了ISO9001質量體系認證和國家計量體系認證，榮獲了“武漢市第九界消費者滿意單位”的稱號。
