工作原理：純化媒介是一種高活性的無機化合物，可以用來去除腐蝕性氣體中的水分，有效降低腐蝕性氣體對氣體供應系統中各個部件的腐蝕程度。此類腐蝕行為會產生大量的揮發與非揮發的金屬雜質，明顯降低設備性能和產能，同時也會大大減少整個氣體供應系統的使用壽命。 Metal-X TM 能夠有效去除氣體原料在生產過程中或是在供應過程中產生的各類金屬雜質。由于此類金屬雜質無法通過過濾器清除，Metal-X TM 被證明是可以同時去除腐蝕性氣體中的水分和金屬雜質（揮發與非揮發）的純化媒介。

去除：

– 水分 (H2O)

– 細微顆粒 (非揮發性）

– 揮發性金屬顆粒：鐵，鉬，鉻，鈦，鎳，錳等

• 提高并確保制程氣體質量

• 提高制程性能與產能

• 保護設備不被腐蝕

• 適用于氣源 （滿瓶），POU 制程機臺前端（<100 psig）。

 MTX ™ 擁有比前代同類產品高出約30%壽命。

• MTX™ 擁有更高的性能

< 1 ppb H2O in N2 (APIMS常壓電離質譜分析)

< 100 ppb H2O in HBr (FTIR傅里葉紅外光譜/Laser IR/Lamda Scan，LDL分析設備及方法的檢測極限)

• 不需要額外的電源供應

• 不需要加熱或冷卻

ICP-MS 電感耦合等離子質譜

典型應用

• 減少etching和chamber cleaning時的金屬雜質

• 減少Epi Si CVD氣源中的金屬雜質

• 光釬和其余超高純應用

需要具體型號及尺寸等更多信息