高真空電阻蒸發鍍膜機ZHD400產品概述：
1、適用：大專院校、科研院所及企業進行薄膜新材料的科研與小批量制備。
2、產品特點/用途：
? 設備一體化設計，占地面積小，*，性能穩定，使用維護成本低；
? 設備配備4～6組蒸發源，兼容有機蒸發與無機蒸發，多元共蒸獲得復合膜/分蒸獲得多層膜，功能強大，性能穩定；
? 適用于實驗室制備金屬單質膜、半導體膜、有機膜，也可用于生產線前期工藝試驗等；
? 適用于蒸發鍍膜與手套箱環境有機融合，實現蒸鍍、封裝、測試等工藝無縫對接，廣泛用于鈣鈦礦太陽能電池/OPV有機太陽能電池及OLED薄膜等研究系統等。
高真空電阻蒸發鍍膜機ZHD400技術參數
| 型號 | ZHD400 |
| 鍍膜方式 | 多源蒸發鍍膜 |
| 真空腔室結構 | 立式方形前開門結構 |
| 真空腔室尺寸 | L400×W440×H450mm |
| 加熱溫度 | 室溫～300℃ |
| 旋轉基片臺 | 120mm×120mm |
| 基片臺升降 | 手動調節升降高度0～80mm |
| 膜厚不均勻性 | ≤±5.0% |
| 蒸發源 | 2～3組金屬源，2～3組有機源 |
| 控制方式 | PLC/PC自動控制系統可選 |
| 占地面積 | 主機L1750×W850×H1910mm |
| 總功率 | ≥8KW |
北京泰科諾科技有限公司自2003年成立以來，一直專注于真空設備的研發、設計、制造，是一家集真空薄膜新材料沉積設備、真空技術應用設備等相關設備及其工藝的研發、設計、制造、銷售、服務于一體的*。
公司的研發中試孵化基地位于毗鄰雄安新區的任丘經濟技術開發區，距離未來的雄安高鐵站約20公里，占地面積20000㎡,不僅建有包括機加工、電氣、結構組裝，調試等多個中試生產車間和辦公樓以及其它輔助廠房；同時建有研發工藝、服務客戶的開放實驗室。公司還聘請了國內外真空行業zi深的專家、教授作為本公司的技術顧問，確保真空設備產品高水平，始終保持較強的自主研發能力、*的設計概念、領xian的技術優勢。
