Pluto-MD等離子去膠機

產品介紹：

去膠工藝是微加工過程中一個重要的過程，在電子束曝光，紫外曝光等微納米加工工藝后，都要對光刻膠進行去除或打底膜處理。光刻膠是否去除干凈對樣片是否有損傷等問題，將直接影響后續工藝的順利完成。PLUTO-MD使用性能出色的組件和軟件，可對工藝參數進行精確控制。它的工藝監測和數據采集軟件可實現嚴格的質量控制。

  Pluto-MD等離子去膠機應用范圍：

該技術已經成功的應用于功率晶體管、模擬器件、傳感器、光學器件、光電、EMS/MOEMS、生物器件、LED等領域。

 產品性能：

經過真空檢漏316不銹鋼腔體， 具備更好密封性能和保壓能力

5L腔體，雙層電極，離子密度可控

13.5EMHz射頻等離子源，兼容物理反應和化學反應，覆蓋全部樣品種類

創新可調電極，可以調整有效處理面積中等離子體的能量密度

標配兩路氣體，適應更多用戶需求。

電容觸摸屏，全數字控制。

全手動控制和預設工藝參數自動運行

產品參數：