等離子清洗機處理無損傷、無污染，無廢水，符合環保要求，工藝穩定安全，等離子體清洗機不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對玻璃、金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實現整體和局部以及復雜結構的清洗。 等離子體的”活性”組分包括：離子、電子、活性基團、激發態的核素（亞穩態）、光子等。等離子體表面處理機器就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現清潔、改性、光刻膠灰化等目的，通過等離子清洗機處理使等離子體與材料表面發生化學反應，形成羰基、羧基、羥基等親水基團，從而增加表面能量，改變表面的化學特性，提高材料粘接、親水、附著等特性。

等離子清洗機增強粘接力 浸潤性 去膠設備在清潔材料表面的同時，還能對材料表面進行活化，有利于材料進行下一道的涂覆粘接等工藝。

等離子體清洗機表面活化是物體經過等離子體清洗機處理之后表面能增強、提高粘合度，附著力；材料表面涂層、清洗、蝕刻、活化一臺等離子清洗機輕松搞定

等離子清洗機增強粘接力 浸潤性 去膠設備用于刻蝕、脫膠、涂層、灰度、等離子體表面處理。等離子清洗機提高材料表面的潤濕性，從而提高材料的涂層等性能，增強材料的附著力、粘結力和去除有機污染物。等離子表面活化機可以處理基本材料在印刷或粘著活化、改性、接枝、粗化或清洗前等功能

等離子清洗機增強粘接力 浸潤性 去膠設備可依客戶需求定制不同規格的清洗機設備。

等離子清洗機去除材料表面物、顆粒、臟污物、氧化物、有機物、去除光刻膠、電路板去膠，增加潔凈度、提升親水性、增強粘貼力

ICP硅刻蝕、CCP介質刻蝕、金屬刻蝕，等離子清洗機實現各向異性刻蝕，保證細小圖形轉移后的保真性