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工業(yè)型等離子清洗機(jī)

參考價 4440
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市東信高科自動化設(shè)備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地深圳市
  • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
  • 更新時間2020/6/27 18:26:03
  • 訪問次數(shù)258
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深圳市東信高科自動化設(shè)備有限公司始創(chuàng)于1998年,是中國早一批專業(yè)從事真空及大氣低溫等離孑體(電漿)技術(shù)、射頻及微波等離子體技術(shù)研發(fā)、生產(chǎn)、銷售于一體的國家髙新技術(shù)企業(yè),隸屬于東信髙科等離子科技(香港)控股有限公司,總部設(shè)于香港。目前公司設(shè)立有等離子事業(yè)部,超聲清洗事業(yè)部,自動化設(shè)備事業(yè)部,塑膠焊接事業(yè)部。產(chǎn)品涉及等離子體表面處理設(shè)眢,超聲波淸洗設(shè)備、電鍍、制冷等環(huán)保自動化設(shè)備等。公司現(xiàn)有廠房面積7000余平方米,員工150人以上,其中博士生5人,高級研發(fā)工程師近40余人,售后服務(wù)25余人。

 為適應(yīng)國內(nèi)外市場對等離子體表面處理工藝的需求,東信高科等離子事業(yè)部聯(lián)合德國等離孑體硏究所,中囯*等離子硏究所,囯內(nèi)外科硏機(jī)構(gòu),投入相當(dāng)大的硏發(fā)成本,先后硏發(fā)岀了等離子清洗機(jī)、等離子刻蝕機(jī)、等離子去膠機(jī)、等離子表面處理設(shè)備、電漿清洗機(jī)及常壓等離子打磨、拋光系統(tǒng)等。目前產(chǎn)品廣泛服努于包裝、塑料制品、通訊、汽車、家電、光電、紡織、半導(dǎo)體及精密制造行業(yè)在表面涂裝、表面粘接、表面清潔方面尤為突岀。通過多年的市場實(shí)踐及等離子新技術(shù)研究和應(yīng)用,成功的推動了我國低溫等離子技術(shù)在等離子體塵埃、晶體、材料合成、微米納米技術(shù)、化工、環(huán)保、表面聚合、表面接枝、表面刻蝕、表面催化、金屬滲氮、化學(xué)合成和和氣、液、固態(tài)物質(zhì)的處理方面的發(fā)展。

憑借公司的強(qiáng)大研發(fā)實(shí)力,東信高科已成功申請多項(xiàng)技術(shù)。目前經(jīng)過近二十年的發(fā)展,公司產(chǎn)品先后經(jīng)過了四次升級換代,公司先后與富士康公司、美國AAC集團(tuán)、愛普生電子、中國兵器集團(tuán)、*、*、*、東南大學(xué)光電實(shí)驗(yàn)室、藍(lán)思科技、長方照明、歐菲光科技、伯恩光學(xué)、信利光電、德昌電機(jī)、深圳比亞迪股份、大疆創(chuàng)新、國顯科技、吉利汽車等世界企業(yè)和硏究單位達(dá)成戰(zhàn)略合作協(xié)議,成為上述企業(yè)和單位的設(shè)備*供應(yīng)商。公司秉承誠信、拼搏、創(chuàng)新的精神理念,以人為本、高效服務(wù)的經(jīng)營理念,立足中國,面向,打造世界先的等離子表面處理設(shè)備供應(yīng)商和服務(wù)商!

清洗機(jī),超聲波清洗機(jī)
工業(yè)型等離子清洗機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì), 不存在使用液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。等離子體清洗機(jī)工作時真空清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面, 短時間的清洗就可以使污染物被*地清洗掉, 同時污染物被真空泵抽走, 其清洗程度可達(dá)到分子級。
工業(yè)型等離子清洗機(jī) 產(chǎn)品信息
型號 工業(yè)型等離子清洗機(jī)
容量60L、110L、150L、180L、200L可選
電源頻率40KHz、13.56MHz可選
真空泵(油泵/干泵+羅茨組合)
真空度5-100Pa可調(diào)
控制方式PLC+觸摸屏
腔體材質(zhì)316不銹鋼/鋁合金可選

工業(yè)型等離子清洗機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn):

高穩(wěn)定性能,可用于大規(guī)模連續(xù)生產(chǎn);

*的電極結(jié)構(gòu),確保等離子體的均勻性;

適合各種形狀的產(chǎn)品,通用性高;

自主研發(fā)集成控制系統(tǒng)軟件,操作便捷;

可按照客戶要求定制腔體尺寸和層數(shù),滿足客戶的使用要求;

等離子體是由Sir William Crookes在1879年發(fā)現(xiàn)的。而等離子體清洗機(jī)應(yīng)用于工業(yè), 源于20世紀(jì)初。并且隨著等離子體物理研究的深入, 其應(yīng)用越來越廣, 目前已在眾多高科技領(lǐng)域中, 居于關(guān)鍵技術(shù)的地位。等離子清洗技術(shù)對產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟(jì)和人類文明影響大的, 尤其是半導(dǎo)體業(yè)與光電工業(yè)。

等離子體清洗采用氣體作為清洗介質(zhì), 不存在使用液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。等離子體清洗機(jī)工作時真空清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面, 短時間的清洗就可以使污染物被*地清洗掉, 同時污染物被真空泵抽走, 其清洗程度可達(dá)到分子級。 

目前已廣泛應(yīng)用的物理化學(xué)清洗方法, 大致可分為兩類:濕法清洗和干法清洗。干法清洗中發(fā)展較快、優(yōu)勢明顯的是等離子體清洗, 等離子體清洗已逐步在半導(dǎo)體制造、微電子封裝、精密機(jī)械等行業(yè)開始普遍應(yīng)用。濕法清洗要大量使用酸堿等化學(xué)物質(zhì), 而且清洗后產(chǎn)生大量的廢氣、廢液。當(dāng)然濕法清洗目前在清洗工藝中還占據(jù)主導(dǎo)地位。但是從對環(huán)境的影響、原材料的消耗來看, 干法清洗要明顯優(yōu)于濕法清洗, 更應(yīng)是未來清洗方法的發(fā)展方向。

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