全譜直讀ICP發射光譜儀 新的光學設計之外,還有其他支持大批量金屬分析的技術特性。它有一個新的密封火花臺，具有優化層流設計，可降低氬氣消耗，降低污染的可能性，并大大降低維護要求。帶有低壓氬氣吹掃的*中壓系統可減少泵的使用。這可將泵的功耗降低90%，并避免油氣污染，從而增加可靠性和儀器的正常運行時間。
全譜直讀ICP發射光譜儀
密封光學設計可降低污染的幾率，由此節省維護、標準化和透鏡清潔時間。通過減小光室的體積，可確保在一小時內隨時進行大量分析（盡管對于遠紫外波長和氮的分析而言，可能需要較長時間）。可根據需要進行盡可能多的測量，以確保生產符合規格。
可免費獲得無限制的安全數據存儲，并可從任何連接的計算機訪問結果。可從一個集中位置管理多臺光譜儀，即使這些光譜儀分散在不同場所。這使得存儲大量數據并在需要時檢索數據變得更加容易，
該系列光譜儀適用于科研及工業生產的普通光譜測量應用，測量精度高且自帶軟件，以其超高的性價比應用于多種涉及光譜測量分析的領域，如：等離子體測量、LED分揀、顏色測量、化工過程分析等；而且憑其*的設計可以方便的集成到其他系統中。
配置具備TE熱電致冷器，使傳感器工作恒溫于5度，降低傳感器的噪聲輸出；采用了512像素InGaAs線陣探測器，可快速同時采樣800nm～1700nm或800nm～2600nm范圍內光譜信號，并提供1.0nm～14nm FWHM的光譜分辨率。
