微電極拉制儀（Microforge）拉制出的電極，電極的尖往往不是很光滑。為了能與細胞膜間形成穩定可靠的封接，一般拉制出的微電極需要對其尖進行拋光處理，尤其是進行單通道記錄時的微電極更需要進行拋光，此時需要使用微電極拋光儀。單通道記錄中還需要在微電極尖涂上疏水性硅酮樹脂（Sylgard）以減小跨壁電容（Transmural capacitance）帶來的噪聲，此時要注意先涂Sylgard后拋光。

應用范圍：

微電極拉制儀拉出的電極，在電極的尖，往往不是很光滑。因此拉制出的微電極必須進行細致的拋光處理，以保證高阻封接的質量，同時還可使封接保持長時間的穩定。在一些實驗中還需要在微電極尖涂上（Coating）疏水硅膠樹脂（Sylgard）以減小跨壁電容（Transmural capacitance）帶來的噪聲.

微電極拋光儀主要特點：


1. 目鏡：15X，物鏡變焦倍數： 5X 和 35X
2. 放大倍數：75 --- 525倍
3. 加熱操作器移動距離: X 軸14mm, Y軸14mm, Z軸14mm，
4. 電極操作器移動距離：Y軸12mm, Z軸28mm
5. Maxmum工作距離：0 – 30mm
6. 操作方便，設計合理