若一個(gè)電子由軌道游離，則其他能階的電子會(huì)自然的跳至他的位置，以達(dá)到穩(wěn)定的狀態(tài)，此種不同能階轉(zhuǎn)換的過(guò)程可釋放出能量，即X-射線。因?yàn)楦髟氐拿恳粋€(gè)原子的能階均不同，所以每一元素軌道間的能階差也不同相同。

        下述可描述鍍層膜厚測(cè)厚儀X-射線熒光的特性：若產(chǎn)生X-射線熒光是由于轉(zhuǎn)移一個(gè)電子進(jìn)入K 軌道，一個(gè)K軌道上的電子已事先被游離，另一個(gè)電子即代替他的地位，此稱(chēng)之為K 輻射。不同的能階轉(zhuǎn)換出不同的能量，如Kα輻射是電子由L軌道跳至K軌道的一種輻射，而Kβ輻射是電子從M 軌道跳至K軌道的一種輻射，其間是有區(qū)別的。若X-射線熒光是一個(gè)電子跳入L的空軌域，此種輻射稱(chēng)為L(zhǎng)輻射。同樣的L 輻射可劃分為L(zhǎng)α 輻射，此是由M軌道之電子跳入L軌道及Lβ 輻射，此是由N 軌道之電子跳入L 軌道中 。由于Kβ輻射能量約為Kα的11%，而Lβ輻射能量較Lα大約20%，所以以能量的觀點(diǎn)Lα及Lβ是很容易區(qū)分的。

原子的特性由原子序來(lái)決定，亦即質(zhì)子的數(shù)目或軌道中電子的數(shù)目，即如圖所示特定的X-射線能量與原子序間的關(guān)系。K輻射較L輻射能量高很多，而不同的原子序也會(huì)造成不同的能量差。

特定的X-射線可由比例計(jì)數(shù)器來(lái)偵測(cè)。當(dāng)輻射撞擊在比例器后，即轉(zhuǎn)換為近幾年的脈波。電路輸出脈沖高度與能量撞擊大小成正比。由特殊物質(zhì)所發(fā)出的X-射線可由其后的鑒別電路記錄。

使用X-射線熒光原理測(cè)厚，將被測(cè)物置于儀器中，使待測(cè)部位受到X-射線的照射。此時(shí)，特定X-射線將由鍍膜、素材及任何中間層膜產(chǎn)生，而檢測(cè)系統(tǒng)將其轉(zhuǎn)換為成比例的電信號(hào)，且由儀器記錄下來(lái)，測(cè)量X-射線的強(qiáng)度可得到鍍膜的厚度。

x-ray鍍層膜厚測(cè)厚儀參數(shù)規(guī)格

型號(hào)： X熒光 鍍層測(cè)厚儀

賣(mài)點(diǎn)：(提供主要賣(mài)點(diǎn)以及這個(gè)賣(mài)點(diǎn)的詳細(xì)說(shuō)明）

1.電鍍行業(yè)者           

2.可分析5層25種元素鍍層

3實(shí)現(xiàn)對(duì)多鍍層樣品的準(zhǔn)分析

4.方便用戶觀測(cè)樣品狀況

5.針對(duì)不規(guī)律測(cè)樣品檢測(cè)

技術(shù)指標(biāo)

型號(hào)：元素分析范圍從硫(S)到鈾（U）。 
同時(shí)可以分析30種以上元素，五層鍍層。
分析含量一般為ppm到99.9% 。
任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型。
相互獨(dú)立的基體效應(yīng)校正模型。
多變量非線性回收程序
度適應(yīng)范圍為15℃至30℃。
電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源。 
外觀尺寸： 576(W)×495(D)×545(H) mm 
樣品室尺寸：500(W)×350(D)×140(H) mm
重量：90kg

標(biāo)準(zhǔn)配置

開(kāi)放式樣品腔。
精密二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和X光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。
雙激光定位裝置。
鉛玻璃屏蔽罩。 
SDD探測(cè)器。
信號(hào)檢測(cè)電子電路。
高低壓電源。
X光管。
高度傳感器
保護(hù)傳感器
計(jì)算機(jī)及噴墨打印機(jī)

應(yīng)用領(lǐng)域

黃金，鉑，銀等貴金屬和各種首飾的含量檢測(cè).
金屬鍍層的厚度測(cè)量, 電鍍液和鍍層含量的測(cè)定。
主要用于貴金屬加工和首飾加工行業(yè)；銀行，首飾銷(xiāo)售和檢測(cè)機(jī)構(gòu)；電鍍行業(yè)。