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大基片單晶圓全自動兆聲清洗機

參考價	￥ 40
訂貨量	≥1 件

具體成交價以合同協議為準

公司名稱德國韋氏納米系統（香港）有限公司
品牌
型號LSC-5000LS
所在地香港特別行政區
廠商性質經銷商
更新時間2020/1/8 12:40:25
訪問次數522

產品標簽:

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公司介紹主營產品

First-Nano System GmbH

2003年創立于德國德累斯頓工業大學（Dresden University of Technology）

2008年香港成立德國韋氏納米系統（香港）有限公司

2015年上海成立德國韋氏納米系統（香港）有限公司中國代表處，負責中國區業務

德國韋氏納米系統成立以來，一直為客戶想的更多，Thinking more ！！！

產品范圍：

薄膜沉積/Thin Film Deposition
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蝕/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面處理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma
- Wet: Megasonic, Brush, SC1, SC2, Piranha, O3DIW
其他/Other,
Device Testing System for Space Simulation, Heated Platens, Plasma Sources, Resist Stripping Systems

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清洗機，分析儀

產品簡介在線詢價

大基片單晶圓全自動兆聲清洗機技術的兆聲和清洗技術的發展，對MEMS和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得zui干凈的晶圓片和掩模版。

大基片單晶圓全自動兆聲清洗機產品信息

技術的兆聲和清洗技術的發展，對MEMS和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得zui干凈的晶圓片和掩模版。

German First Nano System提供兆聲大基片單晶圓全自動兆聲清洗機用于*的無損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達到*化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。German Fisrt Nano System 技術確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面，通過分布能量的zui大化支持的清洗，同時保證在樣片的損傷閾值范圍內。

LSC-5000大基片單晶圓全自動兆聲清洗機應用：

濕法刻蝕
硅片
藍寶石片
圓框架上的芯片
顯示面板
ITO涂覆的顯示屏
帶保護膜的分劃版
掩模版空白部位
掩模版接觸部位
帶保護膜/不帶保護膜的掩模版
LSC-5000全自動兆聲大基片濕法刻蝕系統的特點：

支持450mm直徑的圓片或15"x15"方片
帶兆聲、DI、刷子、熱DI、高壓DI、熱氮、化學試劑滴膠臂的大腔體
帶化學試劑滴膠的刷子轉速可調節
帶LABVIEW軟件的PC全自動控制
觸摸屏用戶界面
機械手上下載片，帶EFEM以及SMIF界面
安全互鎖及警報裝置
30"D x 26"W 的占地面積

關鍵詞：芯片