SWC-4000兆聲掩模板清洗機提供了可控的化學試劑滴膠能力，這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進一步加強。SWC和LSC具備對點試劑滴膠系統，可以zui大程度節省化學試劑的用量的。滴膠系統支持可編程的化學試劑混合能力，提供了可控的化學試劑在整個基片上的分布。
此外，NANO-MASTER的清洗機都還提供了一系列的選配功能。PVA軟毛刷提供了機械的方式去除無圖案基片上的污點和殘膠。DI水臭氧化的選配項提供了有機物的去除，而無須腐蝕性的化學試劑。我們的氫化DI水系統跟兆聲能量結合可以達到納米級的顆粒去除。根據不同的應用，某些選配項將會進一步提高設備去除不想要的顆粒和殘留物的能力。
SWC系統能夠就地實現熱氮或異丙醇甩干。“干進干出" 一步工藝可以在我們的系統中以zui低的投資和購置成本來實現。NANO-MASTER清洗機的工藝處理時間可以在3-5分鐘內完成，具體是3分鐘還是5分鐘取決于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情況。
SWC-4000兆聲掩模板清洗機應用：
- 帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片
- Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗
- CMP處理后的晶圓片清洗
- 晶圓框架上的切粒芯片清洗
- 等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
- 帶保護膜的分劃版清洗
- 掩模版空白部位或接觸部位清洗
- X射線及極紫外掩模版清洗
- 光學鏡頭清洗
- ITO涂覆的顯示面板清洗
的特點：
- 支持12"直徑的圓片或9"x9"方片
- 獨立系統
- 無損兆聲,試劑，毛刷清洗及旋轉甩干
- 微處理機自動控制
- 化學試劑滴膠單元
- 溶劑與酸分離排廢
- 熱氮
- 30"D x 26"W 的占地面積
選配項：
- 掩模板或晶圓片夾具
- 臭氧清洗
- PVA軟毛刷清洗
- 高壓DI清洗
- 氮氣離子發生器
