單片晶圓清洗機新技術的兆聲和清洗技術的發展，對MEMS和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得zui干凈的晶圓片和掩模版。
NANO-MASTER單片晶圓清洗機提供兆聲單晶圓&掩模清洗(SWC)系統，用于的無損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達到*化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。NANO-MASTER的技術確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面，通過分布能量的zui大化支持的清洗，同時保證在樣片的損傷閾值范圍內。
通過聯合使用化學試劑滴膠和NANO-MASTER的兆聲清洗技術，系統去除顆粒的能力得到進一步優化。顆粒從表面被釋放的能力也因此得到提升，從而被釋放的顆粒在幅流的DI水作用下被掃除出去，而把回附的數量降到了zui低水平。從基片表面被去除。如果沒有使用幅流DI水的優勢，的靜態可循環兆聲清洗槽會有更大數量的顆粒回附，并且因此需要更多的去除這些顆粒。
NANO-MASTER的技術也適用于清洗背部以及帶保護膜掩模版前面的對準標記，降低這些掩模版的不必要去除和重做保護膜的幾率。它也可以用于去除薄膜膠黏劑的黏附性并準備表面以便再次覆膜。此外，帶薄膜掩模版的全部正面的兆聲清洗以及旋轉甩干可以做到無損并且對薄膜無滲漏。
