哈澤爾膜電容脫鹽裝置主要是導(dǎo)致電容器釋放電流污染物進入細(xì)胞通道。通過沖洗將污染物從電池中去除用少量的液體,從而形成濃溶液。操作電位相對較低(約1.2V),因此沒有電解反應(yīng)發(fā)生時,防止電容器材料的擊穿和二次固體的形成階段。以往的CDI體系設(shè)計都局限于處理相對較低的離子強度溶液(TDS < 3000 mg/L)。其應(yīng)用范圍有限的原因已被確定為高孔隙體積比表面積的碳電極材料的特點。系統(tǒng)相對于傳統(tǒng)水處理技術(shù)的主要優(yōu)勢是:
1.預(yù)處理要求。
2. *的水回收率和高離子去除效率。
3.低維護。
4. 不添加鹽或化學(xué)物質(zhì)到處理過的水中。
5. 易于去除碳酸鈣,氯離子、高氯酸鹽和砷等有問題的污染物。
6. 可以在不*去離子化的情況下優(yōu)先去除污染物嗎水流。
7. 可操作在不同水平的離子去除和水回收效率。
技術(shù)已經(jīng)被證明可以有效地去除水中和廢水中的溶解性固體(Shelp等,2004)。然而,在一些水源中,TDS是需要關(guān)注的污染物。一個備用的細(xì)胞設(shè)計系統(tǒng)被測試以去除TDS為目標(biāo),同時小化mions的去除。確定了一個有問題的地下水源并進行了檢測。被TDS- n污染的組大為34 mg/L,總體TDS濃度的處理目標(biāo)是將TDS- n降低到10 mg/L以下,總體TDS去除量。結(jié)果初步結(jié)果表明,電導(dǎo)率設(shè)定值0.9 mS/cm即可達到目標(biāo)TDS的去除。處理后的水的電導(dǎo)率為0.9 mS/cm,去除的TDS只有31%(根據(jù)入口電導(dǎo)率為1.3 mS/cm計算)