意大利哈納HI84100微電腦二氧化硫滴定分析儀
HI84100采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領域，二氧化硫的主要應用是進行防腐。以葡萄酒為例，當有氧存在時將zui先與二氧化硫發生反映，起到抗氧化的作用，進而保證酵母菌的正常發酵，并抑制其他雜菌。
• 基于微電腦控制技術，集滴定分析，磁力攪拌和電極測量于一體
• 性能優良操作簡單，可直接顯示測量結果
• 人性化設計，具有穩定標識和校準信息等顯示功能
• 殘留二氧化硫濃度取決于三個因素：總添加量，原初始量，添加的氧化程度
• 通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用
• 當殘留濃度超過2.0ppm時，即被人感知到，因此以此濃度作為上限值。
| 型號 | HI 84100 | ||||||||||||||||||
| 滴定范圍 | 0 to 400 ppm of SO2 | ||||||||||||||||||
| 滴定方法 | 等電位氧化還原滴定法 | ||||||||||||||||||
| 滴定精度 | 讀數的5% | ||||||||||||||||||
| 取樣量 | 50 mL | ||||||||||||||||||
| ORP電極 | HI 3148B | ||||||||||||||||||
| 供電方式 | 220V/60 Hz；10VA | ||||||||||||||||||
| 使用環境 | 0 to 50°C （32 to 122°F）；RH max 95% | ||||||||||||||||||
| 尺寸重量 | 208 × 214 × 163 mm；2200 g | ||||||||||||||||||
