HC-CMS-2000DN型 氨逃逸在線監測系統產品概述：

HC-CMS-2000DN氨逃逸在線監測系統（NH3）基于可調諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）技術原理。系統包括預處理、氣體分析模塊和數據處理與顯示三大部分。被測氣體經過高溫采樣探頭除塵、伴熱管高溫傳輸、進入高溫氣體分析模塊（TDLAS技術）分析測量。有效的解決了銨鹽低溫結晶堵塞流路，低溫冷凝水析出溶解NH3導致的測量精度偏低，原位式系統高粉塵衰減光路導致無法測量等技術難題。

HC-CMS-2000DN型 氨逃逸在線監測系統技術規格：

測量技術：可調諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）技術

量程范圍：0～20μmol/mol（可定制）

示值誤差：≤±1%F.S.

零點漂移：≤±1%F.S./7d

量程漂移：≤±1%F.S./7d

響應時間：≤120s

模擬接口：2路，4-20mA 輸入

通訊接口：RS485/GPRS

供電：（220±15%）VAC，5000W

尺寸： 600mm×285mm×1200mm

產品特點：

“單線光譜”吸收技術避免背景氣體干擾、檢測下限低、量程漂移小

220℃以上伴熱避免銨鹽結晶及水份溶解吸收

自動化程度高、維護量小

結構緊湊、便于安裝

產品應用：

適用于包括燃煤發電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、玻璃廠、垃圾發電站、水泥廠、化工廠等SCR或SNCR脫硝裝置的氨氣逃逸排放監測和過程控制