半導體行業(yè)超純水設備是一種將離子交換技術(shù)，離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)相結(jié)合的純水制造技術(shù)。在半導體加工過程中需要使用水進行處理，該水質(zhì)的要求非常高，不能含有任何離子雜質(zhì)。半導體行業(yè)用超純水設備采用*的制水技術(shù)，有效去除水中雜質(zhì)，保證設備的出水水質(zhì)。屬高科技綠色環(huán)保技術(shù)。EDI超純水設備備具有連續(xù)出水、無需酸堿再生和無人值守等優(yōu)點，已在制備純水的系統(tǒng)中逐步代替混床作為精處理設備使用。這種*技術(shù)的環(huán)保特性好，操作使用簡便，愈來愈多地被人們所認可，也愈來愈多廣泛地在醫(yī)藥、電子、電力、化工等行業(yè)得到推廣。

半導體行業(yè)超純水設備主要是在直流電場的作用下,通過隔板的水中電介質(zhì)離子發(fā)生定向移動,利用交換膜對離子的選擇透過作用來對水質(zhì)進行提純的一種科學的水處理技術(shù)。電滲析器的一對電極之間,通常由陰膜,陽膜和隔板(甲、乙)多組交替排列,構(gòu)成濃室和淡室(即陽離子可透過陽膜,陰離子可透過陰膜).淡室水中陽離子向負極遷移透過陽膜,被濃室中的陰膜截留；水中陰離子向正極方向遷移陰膜,被濃室中的陽膜截留,這樣通過淡室的水中離子數(shù)逐漸減少,成為淡水,而濃室的水中,由于濃室的陰陽離子不斷涌進,電介質(zhì)離子濃度不斷升高,而成為濃水,從而達到淡化,提純,濃縮或精制的目的。

半導體行業(yè)用超純水設備工藝特點：

無需酸堿再生：在混床中樹脂需要用化學藥品酸堿再生，而EDI則消除了這些有害物質(zhì)的處理和繁重的工作，保護了環(huán)境。

連續(xù)、簡單的操作：在混床中由于每次再生和水質(zhì)量的變化，使操作過程變得復雜，而EDI的產(chǎn)水過程是穩(wěn)定的連續(xù)的，產(chǎn)水水質(zhì)是恒定的，沒有復雜的操作程序，操作大大簡便化。

降低了安裝的要求：EDI超純水系統(tǒng)與相當處理水量的混床相比，有較不的體積，它采用積木式結(jié)構(gòu)，可依據(jù)場地的高度和窨靈活地構(gòu)造。模塊化的設計，使EDI在生產(chǎn)工作時能方便維護。

半導體行業(yè)用超純水設備工藝流程：

1、預處理-反滲透-水箱-陽床-陰床-混合床-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制混床-精密過濾器-用水對象

2、預處理-一級反滲透-加藥裝置(PH調(diào)節(jié))-中間水箱-第二級反滲透-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象

3、預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象

4、預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制拋光混床-TOC分解器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象。

半導體超純水設備水質(zhì)標準要求:

半導體超純水設備出水水質(zhì)要符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)電子級水質(zhì)技術(shù)標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我國電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標準、半導體工業(yè)用純水指標、集成電路水質(zhì)標準。

半導體行業(yè)用超純水設備應用領(lǐng)域：

1、電廠化學水處理

2、電子、半導體、精密機械行業(yè)超純水

3、食品、飲料、飲用水的制備

4、小型純水站，團體飲用純水

5、精細化工、精尖學科用水

6、其他行業(yè)所需的高純水制備

7、制藥工業(yè)工藝用水

8、海水、苦咸水的淡化