UV光解凈化設備具有適應性強‘運行成本低、設備占地面積小等特點，廣泛應用于煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉運站、餐廚垃圾處理廠、飼料廠、印染廠、噴涂廠等各種有污染源惡臭氣體的脫臭凈化。 

UV光解凈化設備工作原理

UV光解凈化工藝利用   UV紫外線光束照射惡臭氣體（工業廢氣）分子鍵，裂解惡臭氣體物質如：氨、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鍵，使呈游離狀態的污染物原子與臭氧氧化聚合成小分子無害或低害物質，如CO2、H2O等。

UV光解凈化設備其具體工作機理如下：

1、利用   高臭氧185nm UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而生成臭氧；UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧),臭氧與呈游離狀態污染物質原子聚合，生成新的、無害或低害物質，如CO2、H2O等，同時，臭氧對有機物具有*的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有*的   效果。 

2、利用   253.4nm UV光束(簡稱254nm)裂解惡臭氣體中的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），使之變成極不穩定的C鍵、-0H、O離子。這里受有機廢氣的成份、濃度不同，所需要的紫外線能量也不同。

3、惡臭氣體利用排風設備輸入到凈化設備后，凈化設備運用   UV（紫外線）光束及臭氧對惡臭氣體進行協同分解氧化反應，使惡臭氣體物質降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風管道排出室外。

4、 利用   254nmUV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應，   達到脫臭及滅細菌的目的。

5、利用   高臭氧185nmUV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而生成臭氧；UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧),臭氧與呈游離狀態污染物質原子聚合，生成新的、無害或低害物質，如CO2、H2O等，同時，臭氧對有機物具有*的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有*的   效果。

6、利用   離子體內富含電子、離子、自由基和激發態的分子、電子與離子，有很高的反應活性，可以使通常條件下難以進行或速度很慢的化學反應變得十分迅速。正氧離子具有很強的氧化性，能在極短的時間內氧化、分解甲硫醇、氨、硫化氫等。

UV光解凈化設備應用領域：

1、適用于汽車及機械制造業、涂裝線及烘房有機廢氣處理；電子制造業、印刷線路板（PCB）有機廢氣處理；電氣制造業、漆包線絕緣有機廢氣處理；輕工業、制鞋涂膠有機廢氣處理；印刷彩印有機廢氣處理。 

2、適用于冶金鋼鐵業、破素電極生產有機廢氣處理；化學工業、化學合成工藝（ABs合成）有機廢氣處理。 

3、適用于石油煉化工藝有機廢氣等各種產生有機廢氣場所。