跟著小型醫(yī)院的蓬勃發(fā)展，其地理位置不只局限于建筑物的 地層，同時(shí)也在向?qū)訉?xiě)字樓、商業(yè)樓和百貨樓內(nèi)發(fā)展。污水處理是否將關(guān)系到診所能否開(kāi)辦的一項(xiàng)重要依據(jù)。因?yàn)獒t(yī)院污水中含有很多的病原微生物和有毒物質(zhì)，所以國(guó)家制定了《醫(yī)院污水排放規(guī)范》，要求診所和醫(yī)院的污水經(jīng)消毒處理后才能排至市政管網(wǎng)。
小型醫(yī)療廢水處理設(shè)備氧化溝又名氧化渠，實(shí)際上它是活性污泥法的一種變型。因?yàn)閺U水和活性污泥的混合液在環(huán)狀的曝氣水溝中不斷循環(huán)流動(dòng)，有人稱其為“循環(huán)曝氣池”、“無(wú)終端的曝氣體系”。
早在1920年，Haworth研制的槳板式曝氣機(jī)應(yīng)用于英國(guó)Shefiidd的Tynsley污水處理廠，該處理廠被認(rèn)為是現(xiàn)代氧化溝的驅(qū)，但其時(shí)尚未出現(xiàn)“氧化溝”一詞。得到*的座氧化溝污水處理廠建于1954年，它是由A．Pasveer博士設(shè)計(jì)的，在荷蘭的Voorshopcn市投入使用，效勞人口為360人，從此以后才有了“氧化溝”這一術(shù)語(yǔ)。其運(yùn)轉(zhuǎn)方式為間歇運(yùn)轉(zhuǎn)，將曝氣凈化、泥水別離和污泥等過(guò)程集于一體。由于Pasveer博士的貢獻(xiàn)，這項(xiàng)又被稱為Pasveer溝。小型醫(yī)院廢水處理設(shè)備報(bào)價(jià)從本質(zhì)上講，氧化溝歸于活性污泥改良法的延時(shí)曝氣法范疇。但與通常的延時(shí)曝氣法有所不同，氧化溝中污泥的SRT長(zhǎng)，盡可能使污泥濃度在溝中堅(jiān)持些，以MISS運(yùn)轉(zhuǎn)。因而，那些比增殖速度小的微生物便可以生息，特別是硝化細(xì)菌占優(yōu)勢(shì)，使氧化溝中的硝化反響能顯著進(jìn)行。另外，長(zhǎng)的SRT使剩下污泥量少且已氧，可不需要污泥的消化處理。

氧化溝處理體系的基本特征是曝氣池呈封閉式水溝形，它使用一種帶方向控制的曝氣和攪動(dòng)裝置，一方面向混合液中充氧，另一方面向反響池中的物質(zhì)傳遞水平速度，使污水和活性污泥的混合液在溝內(nèi)作不斷的循環(huán)流動(dòng)。從反響器的觀念看，氧化溝歸于一種*特色的連續(xù)環(huán)式反響器(CLR)。

結(jié)構(gòu)特征及作業(yè)原理
(一)整體結(jié)構(gòu)及作業(yè)原理！江西南昌牙科門診口腔醫(yī)院 污水處理設(shè)備 二氧化氯發(fā)生器
整體結(jié)構(gòu)：發(fā)生器由供料體系、反應(yīng)體系、操控體系和安體系構(gòu)成：發(fā)生器外殼為PVC資料。
作業(yè)原理：由計(jì)量泵將氯酸鈉水溶液與鹽酸溶液輸入到反應(yīng)器中,在必定溫度和負(fù)壓下進(jìn)行充分反應(yīng),產(chǎn)出以二氧化氯為主、cl2為輔的消毒的氣體,經(jīng)水射器吸收與水充分混合后形成消毒液后,通入被消毒水中。
(二)主要部件功能及作業(yè)原理
(1) 水射器：水射器是依據(jù)射流原理而規(guī)劃的一種抽氣元件,當(dāng)動(dòng)力水經(jīng)過(guò)水射器時(shí),其內(nèi)部產(chǎn)生負(fù)壓,外部氣體在壓差效果下被子吸入水射器,然后完成吸氣。被吸入的CLO2氣體在些與混合,形成消毒液,別的,水射器還用于質(zhì)料罐吸收。
(2) 計(jì)量泵：運(yùn)送質(zhì)料及調(diào)節(jié)流量。
(3) 反映器曝氣口〔進(jìn)氣口〕：設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)的空氣通道,設(shè)備時(shí),可銜接管道并通到室外,并堅(jiān)持與氣相通。
(4) 電接點(diǎn)壓力表：電接點(diǎn)壓力表是維護(hù)設(shè)備安運(yùn)轉(zhuǎn)的設(shè)備之一,其作業(yè)原理是：當(dāng)水射器端水壓于設(shè)定值時(shí),該表操控計(jì)量泵中止進(jìn)料。
(5) 質(zhì)料液位傳感器：質(zhì)料液位傳感器也是維護(hù)設(shè)備安運(yùn)轉(zhuǎn)的設(shè)備之一,它設(shè)備于兩個(gè)質(zhì)料罐底部,當(dāng)任何一種質(zhì)料用完時(shí),計(jì)量泵將中止進(jìn)料。
(6) 溫度操控器：溫度操控器是體系加熱操控機(jī)構(gòu),它了氯酸鈉和鹽酸的化學(xué)反應(yīng)溫度。
(7) 操控器：操控器是二氧化氯發(fā)生器的操控,它完成了體系的整個(gè)自動(dòng)操控。

設(shè)備條件
1. 電源：AC220V 50HZ
2. 加藥方法為接連或間斷加藥,依據(jù)時(shí)節(jié)和水質(zhì)不同,加藥時(shí)間、次數(shù)不等。
3. 加藥動(dòng)力水為工業(yè)水或自來(lái)水。
4. 使用的化學(xué)藥品
鹽酸：應(yīng)契合GB320-93《工業(yè)用組成鹽酸》中品規(guī)范,濃度為30%的液體。
氯酸鈉：工業(yè)氯酸鈉純度99%的固體或濃度為30%的液體。
設(shè)備裝置條件
1. 設(shè)備應(yīng)裝置在室內(nèi),工作環(huán)境溫度要15℃以上。
2. 二氧化氯具有強(qiáng)腐蝕性,因此,在設(shè)備裝置時(shí)應(yīng)避免與其它設(shè)備置于同一房間。
3. 設(shè)備間應(yīng)鋪設(shè)水泥地面,并有沖洗水源和排水下水道。
4. 應(yīng)在消毒間內(nèi)安狀換氣扇,堅(jiān)持通風(fēng)杰出。
5. 設(shè)備間應(yīng)有壓力水源,壓力為0.2～0.4MPa。
6. 設(shè)備間應(yīng)有必要的照明設(shè)備及220V,5A-10A單相三孔電源手插座一個(gè)。

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