痕量低濃度氮氧化物分析儀根據Lambert-Beer定律，并采用NDIR（非色散紅外）原理，可選擇性在波長2-9um范圍內測量多種組分，例如：一氧化碳，二氧化碳，二氧化硫，甲烷，一氧化氮以及一些簡單碳氫化合物。
多應用于存在化學反應的生產過程，例如氨氣合成流程中，在使用溫度儀表和壓力儀表控制反應環境以外，還需要使用氣體分析儀表來分析進氣的化學成分，控制氫氣和氨氣之間的合理比例，這樣才能大限度的提高氨氣合成率，而獲得較高的生產效率。
一臺氣體分析儀或一套氣體分析系統相當于一套完整的化工工藝設備，因此，氣體分析儀器系統工作過程就是在實現一系列的化工過程。若想通過氣體分析得到準確數據，就必須了解這一系列化工過程中各階段的情況及變化，認真研究并掌握其中的規律，只有這樣才能達到準確測定的目的。
痕量低濃度氮氧化物分析儀
分析儀按照光學系統劃分，可分為雙光路和單光路兩種：
（1）雙光路：從兩個相同光源或一個精確分配的單光源，發出兩路彼此平行的光束，分別通過分析氣室后和參比氣室后進入檢測器。
（2）單光路：從光源發出單束紅外光，利用切光裝置將紅外光調制成不同波長的光束，輪流通過分析氣室進入檢測器。
質譜分析法是利用不同離子在電場或者磁場中運動軌跡的不同，把離子按質荷比分離而得到質量圖譜，可以得到樣品的定性定量結果。質譜儀按照常用的質量分離器不同可分為掃描磁扇式磁場質譜儀和四極質譜儀，飛行時間質譜儀等幾種類型。目前工業應用上通常采用的是掃描磁扇式質譜儀。四極質譜儀的靈敏度高，適合實驗室或科學研究。掃描磁扇式的穩定性和重復性較高，適合工業應用。
不僅在一臺氣體分析儀器內部具備一套化工工藝過程的同樣情況和條件，而且，有時在儀器前級的樣氣預處理部分（含取樣系統）也同樣是一套化工工藝過程。如遇到較復雜、較特殊的工藝技術條件的話，那么樣氣預處理系統所體現的化工過程還是非常復雜的，相當于一個小化工廠的凈化處理工藝過程。由此可見，氣體分析的過程就是在了解并掌握整個化工過程系統條件的前提下，嚴格控制各種影響測定條件的因素，從而得到工藝及管理人員所需要的準確數據。
