YPL-NIL-SI400納米壓印系統(tǒng):
溫度范圍從室溫到350攝氏度;
壓力范圍從0到20個PSI(在4英寸晶元上);
紫外曝光系統(tǒng);
真空范圍從1個標(biāo)準(zhǔn)大氣壓到0.1帕;
水冷系統(tǒng);
樣品尺寸直徑zui大4英寸;
PLC遠程控制,帶觸摸屏;
手動裝載樣品和模板;
自帶機器控制軟件;
在軟件控制下可實現(xiàn)自動增加和釋放壓力;
可定制更大樣品尺寸或更大壓力系統(tǒng)的納米壓印機。
該機利用紫外曝光或者熱壓固化實現(xiàn)壓印圖案在壓印高分子膠層中的復(fù)制,并通過各項功能與過程參量的優(yōu)化與篩選,通過遠程PLC控制系統(tǒng)結(jié)合觸摸屏單元,實現(xiàn)全過程的實時監(jiān)控與全自動化控制