三級EDI膜堆/EDI設備

三級EDI膜堆/EDI設備概念

“三級EDI”是本公司專為需要生產18~18.2MΩ.cm的超純水用戶而開發的發明的一種“陽陰混混”組合式EDI膜堆。即一級EDI的純水室采用陽陰樹脂分層填充，二級EDI的純水室采用除SiO2型電子級混床樹脂填充，三級EDI采用除TOC拋光樹脂充填。

三級EDI膜堆的技術特點是復床式一級EDI功能相當于二級RO功能，可去除一級RO產水中的大部分離子;二級EDI對SiO2有*的去除率,三級EDI對有機碳TOC有*的去除率,其終端產水電阻率可穩定達到18~18.2MΩ.cm，TOC<4ppb，SiO2<1ppb。

二級EDI膜堆的優點

◎在原水含鹽量高達500~1000ppm時，可采用一級RO+三級EDI超純水工藝制取超純水而不需要二級RO設備和拋光混床精提純

設備，節約了拋光混床耗品費用，降低系統投資費用，其產水質量穩定可靠，產水電阻率18~18.2MΩ.cm；

◎在原水含鹽量低于500ppm時，采用一級RO+三級EDI超純水工藝制取超純水，其預處理的反滲透膜元件使用壽命可延長1~2年，大大降低預處理RO膜更換的費用；

◎無需酸堿再生，無污水排放，無耗品產生，電再生連續制水，保證全天候供水；

二級EDI膜堆技術參數

◎在原水含鹽量<1000ppm時，采用一級反滲透產水為三級EDI進水

◎TDS：＜30ppm

◎pH：6.0～8.0，三級EDI*工作的pH范圍為7±0.5;

◎溫度：5～35℃,*工作溫度為25℃;

◎進水壓力：≤4bar（60psi）；

◎硬度（以CaCO3計）：＜0.5ppm；

◎有機物（TOC）：＜0.5ppm；

◎氧化劑：Cl2＜0.05ppm，O3＜0.02ppm；

◎變價金屬：Fe＜0.02ppm，Mn＜0.04ppm；

◎H2S：＜0.01ppm；

◎二氧化硅：＜0.5ppm；

◎二氧化碳的總量：＜10ppm；

◎進水電導率：<50μS/cm。