UVOCS紫外臭氧清洗工作原理：
清洗設備的核心是低壓石英汞燈，產生254和185nm范圍的紫外線。臭氧和等離子氧氣產生，有機污染物分子在吸收254nm波長紫外線后被激發或分解。激發的有機污染物可以和等離子氧原子反應形成氣體，比如CO2,H2O等。整個過程在室溫**發生，并且只需要1到幾分鐘完成。
*注1：白色氧化鋁暴露在UV能量下會變黃。這種現象是由于基材吸收UV能量， 而不是一種涂層。這種氧化鋁在加熱情況下會轉化為他原來的顏色。
**注2：清洗元件溫度的上升取決清洗過程的時間長度。在大多數應用，元件溫度可以視為室溫。
UV紫外臭氧清洗的特點:
• 超潔凈表面
• 室溫操作
• 快速－大多數應用10分鐘內可完成
• 運行簡單
• 超低采購成本和zui小運行成本
• 10×10 英寸（25.4×25.4cm）
• 220伏
 
T10X10紫外臭氧清洗機是一款臺式的紫外臭氧清洗設備。通過紫外線（185nm和254nm）和臭氧清洗基材表面，能夠簡單，經濟，快速獲得超潔凈表面。能去除大多數無機基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁*等）上的有機污染物。特別是當基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時，紫外清洗非常理想。獲得超潔凈的表面，只需要在傳統清洗后，再用紫外臭氧清洗幾分鐘。
 
 
T10X10紫外臭氧清洗機的屬性：
 
UVOC紫外清洗機
  Model
型號   T10x10/OES
光照尺寸  10" x 10"（25.4×25.4cm）
有效面積: 100 sq. in.
寬: 14"
深: 23 3/4"
高: 14.5"
托盤推出深度: 33"
滑行托盤:  1
結構: 箱體和托盤為不銹鋼結構
功耗: 110Vac / 60Hz 5A Max  or 230Vac / 50Hz 2.5 amp Max
臭氧排氣系統: 有臭氧排氣系統
排氣口尺寸: 3" 直徑
排氣需要: 100cfm
定時器:  在開始或結束時峰鳴
"ON"指示器: 有 有
需要更詳細的關于的資料，
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NOVASCAN PSD工作原理 ：
PSD和PSDP系列紫外光臭氧清洗機通過產生185nm和254nm高強度UV光分解有機分子（污染物）。185nm的光可以將氧分子O2轉變成活性的O3臭氧分子。254nm的光同時激發表面的有機分子，使其更容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在時間短并且同時也被254nm光分解，樣品臺可以調節樣品到燈管的距離來優化性能。PSD和PSDP分解有機污染物，然后形成CO2和H2O蒸氣，同時也將臭氧分子轉變成氧分子。

技術規格表：
PSD 和PSDP 系統在外觀和尺寸方面相似，但是在控制能力，可升級性和加熱板選項方面有所不同。
PSD 系列：PSD系列產品是數字控制的臺式清洗設備，可以提供4×4英寸至12×16英寸的清洗尺寸。設備配備一個帶反射罩的高強度UV格柵燈盤, 和可調節高度的樣品臺，用于優化樣品位置和清洗效果。4英寸或者更大尺寸的系統具有進出氣接口。該系統由一個方便的預設置控制器控制，非常容易操作。

•預設置的數字控制器
•方便簡單的兩按鍵操作
•自動工作：15.30.45.60.90.120分鐘
•工作進程可以在任何時候手工終止
•系統不能提供加熱盤選項
•經濟實用的設計使得PSD系列成為的選擇
•容易安裝和使用
PSD Pro 系統：PSDP 系列產品是研究級的紫外臭氧清洗系統，具有*的靈活性，能滿足有機分子去除和其他眾多的應用。可以直接在空氣中操作，或是通過其中一個進氣口通入氧氣來增加臭氧產生。可編程數字控制器可以控制系統進程，來確保精確時間和優化清洗參數。
•可編程數字控制器
•數字顯示倒計時
•輕松升級到熱盤選項
•可執行暫停和終止指令
•內部存儲器用于記錄之前的參數設置
—— 一個強大的系統，提供了增強的進程控制！
PSDP 內置加熱盤系列：
PSDP-UVT 新增加一個加熱盤，將PSDP-UV的能力提升到了新的水平，使其能zui大化的分解有機分子物質。帶PID反饋回路的數字控制器能精準保持熱盤的溫度，溫度范圍可達150攝氏度。
•和PSDP相同，但標準配置加熱盤
•高利用率和高靈活性
•適應多用戶環境

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