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橢偏儀

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱韋氏納米系統(深圳)有限公司
  • 品       牌其他品牌
  • 型       號SE系列
  • 所  在  地深圳市
  • 廠商性質代理商
  • 更新時間2018/10/22 15:14:59
  • 訪問次數751
產品標簽:

橢偏儀

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First-Nano System GmbH 

  • 2003年          創立于德國德累斯頓工業大學(Dresden University of Technology)

  • 2008年          香港成立德國韋氏納米系統(香港)有限公司   

  • 2015年          上海成立德國韋氏納米系統(香港)有限公司中國代表處,負責中國區業務

  • 2018年          深圳正式成立韋氏納米系統(深圳)有限公司,更好的為中國南方區市場

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產品范圍:

薄膜沉積/Thin Film Deposition 
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蝕/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面處理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液

 

光學透鏡和儀器,實驗室器具,專用儀器儀表,電化學設備和部件
橢偏儀是一種利用偏振態的變化 后光束探測樣品反應技術。不像反射儀,橢偏儀參數(PSI和Del)是在非正常的入射角得到。改變入射角??梢缘玫礁嗟臄祿?,這將有助于精煉模型,減少不確定性和提高用戶的數據信心。因此,可變角度橢偏儀比固定角度的橢偏儀系統具有更強大的功能 。目前有兩種方法改變入射角,手動或自動模式。
橢偏儀 產品信息

Ansgtrom Sun公司設計角度調整模型,通過5度間隔后精確預置槽移動手臂手動調節角度和電動精密測角0.01度分辨率兩種模型。此外,測角垂直布局設計,樣品可以水平放置,這是更安全的處理樣品時??煽康暮妥銐虻脑紨祿?,更多膜的性能參數,如薄膜或涂層 厚度,光學常數(折射率n,消光系數k指數)、接口、孔隙度甚至成分可以通過建模。在這個意義上,*的軟件是一個必須為高性能光譜橢偏儀(SE)工具。我們開發了TFprobe 3 x版軟件的系統設置。仿真,測量,分析,數據管理和2D / 3D圖形演示的一體機。  此外,SE200工具覆蓋了很寬的波長范圍內,從深紫外線(DUV)在可見光到近紅外(250~1100nm),標準配置。DUV范圍適合衡量超薄膜,如納米厚度范圍。一個例子是在硅晶片上的原生氧化層,這是典型的2nm厚。深紫外光譜橢偏儀也是*的,用戶需要測量多種材料的帶隙。

關鍵詞:橢偏儀
15168338725
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