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薄膜應力測量系統

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱韋氏納米系統(深圳)有限公司
  • 品       牌其他品牌
  • 型       號Toho FLX
  • 所  在  地深圳市
  • 廠商性質代理商
  • 更新時間2018/10/22 14:56:24
  • 訪問次數788
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First-Nano System GmbH 

  • 2003年          創立于德國德累斯頓工業大學(Dresden University of Technology)

  • 2008年          香港成立德國韋氏納米系統(香港)有限公司   

  • 2015年          上海成立德國韋氏納米系統(香港)有限公司中國代表處,負責中國區業務

  • 2018年          深圳正式成立韋氏納米系統(深圳)有限公司,更好的為中國南方區市場

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產品范圍:

薄膜沉積/Thin Film Deposition 
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蝕/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面處理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液

 

光學透鏡和儀器,實驗室器具,專用儀器儀表,電化學設備和部件
薄膜應力測量:
在硅片等基板上附膜時,由于基板和薄膜的物理定數有異,產生應力,進而引起基板變形。由涂抹均勻的薄膜引起的變形的表現為基板的翹曲,而薄膜應力測量裝置FLX系列可從這個翹曲(曲率半徑)的變化量測量其應力。
薄膜應力測量系統 產品信息

技術參數:

Toho FLX-2320-S薄膜應力計精確測量多種襯底材料、金屬和電介質等薄膜應力。



主要特點:

       ◆雙光源掃描(可見光激光源及不可見光激光源),系統可自動選擇適合的匹配之激光源; 
       ◆系統內置升溫、降溫模擬系統,便于量測不同溫度下薄膜的應力,溫度調節范圍為-65℃至500℃; 
       ◆自帶常用材料的彈性系數數據庫,并可根據客戶需要添加新型材料相關信息至數據庫,便于新材料研究; 
       ◆形象的軟件分析功能,用于不同測量記錄之間的比較,且測量記錄可導出成Excel等格式的文檔; 
       ◆具有薄膜應力3D繪圖功能。

 

用戶界面:

WINDOWS OS易懂操作界面。

另搭載豐富的基板材料數據庫。自動保存測量數據等方便性能。

每個用戶可分別設定訪問權限。使用自帶軟件實現簡單卻性能高,簡單測量。

 

 

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