光催化廢氣處理設備催化燃燒性能特點

1、用優質金屬鉑、鈀鍍在蜂窩陶瓷載體上作為催化劑、凈化效率高達97－99%，設備壽命長、且可再生、氣體流暢阻力小；

2、安全設施完備：阻火除塵器、泄壓孔、超溫報警等保護設施全；

3、預熱15－30分鐘全功率加熱。工作時只消耗見機功率即可，當廢氣濃度較低時，自動間歇補償加熱；

4、余熱可以返回烘道用來烘干工作，降低原烘道中消耗功率；也可供工廠其它方面熱能回用

光催化廢氣處理設備催化燃燒處理注意事項

1、廢氣成分中，不能含有下列物質;有高粘性的油脂類。如磷、鉍、砷、銻、汞、鉛、錫；高濃度的粉塵；

2、設備選型時，注明廢氣的成分、濃度及出口溫度；

3、設備安裝場所無腐蝕性氣體，并有良好的防雨措施；

4、設備所需電源為：三相交流380V頻率50Hz;

催化燃燒適用范圍

1、用于有機溶劑的凈化處理如：苯類、醇類、酯類、酚類、醚類、烷類等混合性有機廢氣；

2、適用于漆包線、機械、電機、化工、儀表、汽車、發動機、塑料、電器等行業的有機廢氣凈化；

3、適用于各種烘道、印刷油墨、電機絕緣處理等烘干流水線等。

光催化是常溫深度反應技術。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物*氧化成無毒無害的產物，而傳統的高溫焚燒技術則需要在*的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規的催化、氧化方法亦需要幾百的高溫。

從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發產生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑。常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優點，具體研究中可根據需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能較好，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。

處理原理

稀釋擴散法

原理：將有臭味地氣體通過煙囪排至大氣，或用無臭空氣稀釋，降低惡臭物質濃度以減少臭味。適用范圍：適用于處理中、低濃度的有組織排放的惡臭氣體。優點：費用低、設備簡單。缺點：易受氣象條件限制，惡臭物質依然存在。

水吸收法

原理：利用臭氣中某些物質易溶于水的特性，使臭氣成分直接與水接觸，從而溶解于水達到脫臭目的。適用范圍：水溶性、有組織排放源的惡臭氣體。優點：工藝簡單，管理方便，設備運轉費用低 產生二次污染，需對洗滌液進行處理。缺點：凈化效率低，應與其他技術聯合使用，對硫醇，脂肪酸等處理效果差。

曝氣式活性污泥脫臭法

原理：將惡臭物質以曝氣形式分散到含活性污泥的混和液中，通過懸浮生長的微生物降解惡臭物質 適用范圍廣。優點：活性污泥經過馴化后，對不超過極限負荷量的惡臭成分，去除率可達99.5%以上。缺點：受到曝氣強度的限制，該法的應用還有一定局限。

多介質催化氧化工藝

原理：反應塔內裝填特制的固態填料，填料內部復配多介質催化劑。當惡臭氣體在引風機的作用下穿過填料層，與通過特制噴嘴呈發散霧狀噴出的液相復配氧化劑在固相填料表面充分接觸，并在多介質催化劑的催化作用下，惡臭氣體中的污染因子被充分分解。適用范圍：適用范圍廣，尤其適用于處理大氣量、中高濃度的廢氣，對疏水性污染物質有很好的去除率。優點：占地小，投資低，運行成本低；管理方便，即開即用。缺點：耐沖擊負荷，不易污染物濃度及溫度變化影響，需消耗一定量的藥劑。

低溫等離子體

低溫等離子體是繼固態、液態、氣態之后的物質第四態，當外加電壓達到氣體的著火電壓時，氣體分子被擊穿，產生包括電子、各種離子、原子和自由基在內的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現低溫狀態，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內發生分解，并發生后續的各種反應以達到降解污染物的目的。

低溫等離子體空氣凈化設備能夠顯著治理的污染有：VOC、惡臭氣體、異味氣體、油煙、粉塵，也可用于消毒殺菌。低溫等離子體技術是一種全新的凈化過程，不需要任何添加劑、不產生廢水、廢渣，不會導致二次污染。

廢氣處理設備