First-Nano System GmbH
2003年 創立于德國德累斯頓工業大學（Dresden University of Technology）
2008年 香港成立德國韋氏納米系統（香港）有限公司
2015年 上海成立德國韋氏納米系統（香港）有限公司中國代表處，負責中國區業務
2018年 深圳正式成立韋氏納米系統（深圳）有限公司，更好的為中國南方區市場
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產品范圍：
薄膜沉積/Thin Film Deposition
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蝕/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面處理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液
杜邦刻蝕殘留物去除劑
特點：
制定佳的金屬堆棧完整性 ;
“改進”寬窗口處理能力;
強化蝕刻殘余物去除;
清洗的掩膜減少化學殘留;
超大規模集成電路（ULSI）級規格*封裝清洗;
工作溫度下蒸發速率低;
特點：
制定佳的金屬堆棧完整性 ;
“改進”寬窗口處理能力;
強化蝕刻殘余物去除;
清洗的掩膜減少化學殘留;
超大規模集成電路（ULSI）級規格*封裝清洗;
工作溫度下蒸發速率低;
特點：
制定佳的金屬堆棧完整性 ;
“改進”寬窗口處理能力;
強化蝕刻殘余物去除;
清洗的掩膜減少化學殘留;
超大規模集成電路（ULSI）級規格*封裝清洗;
工作溫度下蒸發速率低;
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