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刻蝕殘留物去除劑 清洗/消毒設備

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱韋氏納米系統(深圳)有限公司
  • 品       牌其他品牌
  • 型       號EFC265
  • 所  在  地深圳市
  • 廠商性質代理商
  • 更新時間2023/7/25 9:28:22
  • 訪問次數486
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First-Nano System GmbH 

  • 2003年          創立于德國德累斯頓工業大學(Dresden University of Technology)

  • 2008年          香港成立德國韋氏納米系統(香港)有限公司   

  • 2015年          上海成立德國韋氏納米系統(香港)有限公司中國代表處,負責中國區業務

  • 2018年          深圳正式成立韋氏納米系統(深圳)有限公司,更好的為中國南方區市場

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產品范圍:

薄膜沉積/Thin Film Deposition 
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蝕/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面處理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液

 

光學透鏡和儀器,實驗室器具,專用儀器儀表,電化學設備和部件
杜邦™plasmasolv®ekc265™蝕刻后殘留物去除劑
刻蝕殘留物去除劑 清洗/消毒設備 產品信息

杜邦™plasmasolv®ekc265™蝕刻后殘留物去除劑           

 應用:        

應用EKC265™蝕刻后殘留物器廣泛應用在半導體行業,以滿足關鍵的清潔需求            

從高深寬比MEMS器件100μm+ 到*DRAM 的70nm集成的各個階段

下面列出了常見的應用程序: 

  • 接觸清潔            

  • 金屬線清潔

  • TSV深硅穿孔清潔           

  • 鎢埋位線清洗            

  • 聚酰亞胺清洗            

  • Pad清潔            

  • MEMS清洗

 

特征:

  • 所有蝕刻后鋁清洗的單一解決方案

  • 清洗接觸,金屬,穿孔和Pad

  • 高度選擇性的殘留物去除

  • 去除重有機殘留物

  • 寬工藝窗口

  • 高產率 

  • 穿孔接觸電阻降低

  • 鋁清洗行業基準

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