半導體和LCD用瑞澤高純氨氣干燥裝置
雙式結構,開機后一組工作, 另一組再生備用,而且工作和再生都自動進行,故能連續供氣,一臺能頂單式的兩臺使用。
本裝置雙系統結構,開機后一組工作,另一組再生備用,且工作和再生都自動進行,故能夠*連續供氣;當雜質吸附飽和后,可通過再生恢復活性,故壽命長。
工藝要求:
液氨進入氨氣干燥裝置后雜質含量應控制為:
氨氣露點≤-60℃ 流量1~500Nm³/h 塵埃顆粒<0.1μm
含油量<0.1ppm
工作壓力0~0.8 MPa 本裝置壓降<0.05MPa
本裝置應用領域:化工、冶金工業、還原工藝等。氨氣干燥過濾裝置,采用工業氨作為原料,采用氨分子篩吸附原料氨中的水分,并經過精密氨過濾器的過濾除去粉塵和油分,以保證后級使用在無雜質、無水分的狀態下穩定工作
半導體和LCD用瑞澤高純氨氣干燥裝置售后服務
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