Tetra-30-LF-PC型 等離子清洗/刻蝕機
真空艙體 W305 mm × H300 mm × D370 mm (34 升)
* 分層(zui多到6層) 電極-托盤
* 不銹鋼艙體
* 40KHz 射頻發生器
* 高效針孔電極
* 3氣路,MFC
* 電腦控制 (Windows)
* 功率連續可調 0-1000W
* 自動阻抗匹配
* 電磁閥保護,回流油霧不能進入艙體
* 規格:W600 mm×H2200 mm× D850 mm
* 電源:AC 380V/50Hz
選裝件
* 13.56 MHz 射頻發生器
* 2.45 GHz 射頻發生器
* 加深艙體 D625mm* 旋轉圓筒艙體(適用于處理顆粒狀樣品)
* 分層(zui多到6層) 電極-托盤
* 不銹鋼艙體
* 40KHz 射頻發生器
* 高效針孔電極
* 3氣路,MFC
* 電腦控制 (Windows)
* 功率連續可調 0-1000W
* 自動阻抗匹配
* 電磁閥保護,回流油霧不能進入艙體
* 規格:W600 mm×H2200 mm× D850 mm
* 電源:AC 380V/50Hz
選裝件
* 13.56 MHz 射頻發生器
* 2.45 GHz 射頻發生器
* 加深艙體 D625mm* 旋轉圓筒艙體(適用于處理顆粒狀樣品)
詳情參見配件選裝指南 · . 13.56MHz射頻發生器 · 2.45GHz射頻發生器 · 半自動控制系統 · 全自動控制系統 - 操作輕松簡便的控制系統 · 計算機(PC)控制系統- 操作輕松簡便的控制系統同時可記錄處理的整個過程 · 附加氣體通路 · 自動真空艙門 |
· 設備自動門
· 條碼閱讀器 · 偏壓測量系統 · 碟型閥 · 排氣過濾系統 · 適用于腐蝕性氣體系統 · 艙體托盤可訂做 - 適合艙體的*尺寸 · 粉末處理裝置 · 法拉第容器 |
· 氣體供給系統
- 在等離子聚合過程中提供密度均勻的單體 · 玻璃艙體(硅酸鹽或石英) · 預熱板 · 等離子測量傳感器 - 應用在等離子聚合過程和含腐蝕性環境中 · 真空泵抽氣入口過濾器 · 標簽打印機 · 標簽閱讀機 · 加深艙體 |
· 單體瓶- 輕松的控制不穩定的液體含量
· 聚合處理附件 · 氣瓶出氣減壓閥 · 石英玻璃皿 · 卷軸艙體系統- 適用于批量處理薄膜、箔等 · RIE電極(適用于刻蝕) |
· 旋轉艙體系統- 適用于纖維、紡輪、顆粒狀等樣品的均勻、批量處理
· 安全閥
· 服務條約 - 使用易燃、易爆性氣體,例如:氫氣、乙炔…
· 附加的配件
· 特殊的電極和托盤 · 特殊法蘭/附加法蘭 · 特殊軟件 · 特殊真空艙體 · 過程溫度測量
· 測試墨水(用于測試表面接觸角) |
· 真空泵系統