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原子層沉積鍍膜設備

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱北京維意真空技術應用有限責任公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地北京市
  • 廠商性質生產廠家
  • 更新時間2017/3/9 17:21:27
  • 訪問次數612
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公司名稱(現用名):北京維意真空技術應用有限責任公司
公司名稱(曾用名):北京科立方真空技術應用有限公司
覆蓋區域:北京天津河北

    北京維意真空技術應用有限責任公司,原名北京科立方真空技術應用有限公司,創立于2013年,位于中國·首都北京密云經濟技術開發區,主體經營分為真空配件銷售真空設備定制淺藍納米科技三個部分,是北京從事真空產品設計、制造、銷售、維修、保養于一體的專業性的公司,公司擁有一支專業、優秀的產品技術工程師和維修技術工程師,具有豐富的行業經驗同時還與北京工業大學聯合研發等離子體增強化學氣相沉積系統,與北京交通大學聯合研發原子層沉積系統,滿足高校、研究所的教學、科研使用,同時減少相關進口設備的*,并力爭創造外匯,打出中國創造的!  

    我們的客戶遍布北京各高校研究院所、電力試驗所、各級的材料、物理、化學、納米等研究領域*的實驗室,期待您就是我們的下一位客戶、朋友!

    您的滿意微笑是我們一直努力追求經營目標

技術創新、業務專業、服務誠信是我們一直遵循的經營理念!

 

我們熱誠歡迎國內外*的儀器制造商及科學工作者與我們聯系開展各層面的合作,打造成*的真空系統產品、等離子體增強化學氣相沉積系統和原子層沉積系統供應商。

ALD設備,PECVD設備
原子層沉積是在一個加熱反應器中的襯底上連續引入至少兩種前驅體物種,化學吸附的過程直至表面飽和時就自動終止,適當的過程溫度阻礙了分子在表面的物理吸附。一個基本的原子層沉積循環包括四個步驟:脈沖A,清洗A,脈沖B和清洗B。沉積循環不斷重復直至獲得所需的薄膜厚度,是制作納米結構從而形成納米器件的工具。
原子層沉積鍍膜設備 產品信息

產品詳細描述

原子層沉積是在一個加熱反應器中的襯底上連續引入至少兩種前驅體物種,化學吸附直至表面飽和時就自動終止,適當的過程溫度阻礙了分子在表面的物理吸附。一個基本的原子層沉積循環包括四個步驟:脈沖A,清洗A,脈沖B和清洗B。沉積循環不斷重復直至獲得所需的薄膜厚度,是制作納米結構從而形成納米器件的工具。 


 

產品規格
Wafer尺寸: 50--200mm (2--8),300mm (12)可選配 
工作溫度: 100—400攝氏度 (500攝氏度可選) 
真空腔體尺寸: 250, 320, 400mm 
反應腔體: 具有大,中,小三種 
反應腔體材料: 316SS,Ti,Ni,Al,石英
前驅體源: 2--4種,可為固體/液體/氣體 
樣品載臺: 氣動式移動
 
 

14、結論與展望

   A、ALD技術是目前被半導體工業采納應用的成熟薄膜沉積技術;B、存在其他的商業領域;C、ALD在納米技術領域中存在廣泛的應用;D、ALD技術在光伏產業擁有*的應用潛力;E、ALD生在的表面控制特性使得在三維基體上嚴格的均勻生長薄膜成為可能性。

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