1.設備簡介

 小型磁控濺射鍍膜儀，主要特點是設備體積小，結構簡單緊湊易于操作，對實驗室供電要求低；該系列設備主要部件采用進口或者優的配置，從而提高設備的穩定性；另外自主開發的智能操作系統在設備的運行重復性及安全性方面得到更好地保障。 目前該系列有基本型、旗艦型、豪華型、尊享型4種不同配置可供選擇，可以根據客戶的不同需求進行配置，比較靈活；標配2只Φ2英寸永磁靶，一臺500W直流濺射電源，主要用來開發納米級單層及多層的金屬導電膜、半導體膜以及絕緣膜等。

2.設備主要優勢

    2.1  實用性：設備集成度高，結構緊湊，占地面積小，可以滿足客戶實驗室空間不足的苛刻條件；通過更換設備上下法蘭可以實現磁控與蒸發功能的轉換，實現一機多用；

    2.2  方便性：設備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式，接線及安裝調試簡單，既保證了設備使用方便又保證了設備的整潔；

    2.3  高性價比：設備主要零部件采用進口或國內，以國產設備的價格擁有進口設備的配置，從而保證了設備的質量及性能；

    2.4  安全性：獨立開發的PLC+觸摸屏智能操作系統在傳統操作系統的基礎上新具備了漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養維護提示等功能，保證了設備的使用安全性能；

3.主要技術參數

   3.1 腔室尺寸：Ф246×228mm，1Cr18Ni9Ti優質不銹鋼材質，氬弧焊接；

   3.2 樣品臺尺寸：Ф75mm，高度：60～120mm可調，旋轉：0-20r/min可調；

   3.3 真空系統：機械泵（TRP-12,3L/s）+Pfeiffer分子泵(Hipace80,67L/s)（可選國產分子泵）；GDC-25b電磁擋板閥，DN25mm 限流閥；

   3.4 極限真空：8.0×10-5Pa；

   3.5 真空抽速：大氣～8×10-4Pa ≤ 20min；

   3.6 真空測量：全量程復合真空計，測量范圍：105Pa～10-5Pa；

   3.7 磁控靶：Φ2英寸2只（含靶擋板），兼容直流電源和射頻電源；

   3.8 濺射電源：直流和射頻可選；

   3.9 質量流量計：20sccm、50sccm質量流量控制器各一套；

   3.10控制方式：PLC+觸摸屏智能控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養維護提示等功能；

   3.11設備外形：L60cm×W60cm×H96cm機電一體化機架，預留1個KF40法蘭接口；

   3.12 設備供電總功率≤2KW，220V，單相三線制（一火一零一地）；

   3.13 冷卻循環系統：水壓0.2～0.4MPa，水溫10～25℃，給設備相關需水冷部件提供穩定的制冷水