反滲透+EDI 制程工業用純水機
產品型號
VGT-4000L/H-2RE
反滲透+EDI 制程工業用純水機設備用途
本純水系統產水能力為4T/H，主要用于光學玻璃、半導體、精密零件的清洗。
反滲透+EDI 制程工業用純水機主要技術指標
RO 反滲透≤3-5μS/cm；
EDI 產水電阻率≥15-16MΩ·cm；
拋光混床產水電阻率≥17-18MΩ·cm；
用水點的供水壓力為0.2-0.4MPa
純水設備的組成及描述
本系統主要由以下部分組成：
1）、預處理單元：原水箱、原水泵、石英砂過濾器、活性碳過濾器、保安過濾器等組成，用于除去原水中的懸浮物及膠體及吸附原水中的有機物、部分色素和有害物質，降低化學耗氧量COD。
2）、反滲透單元：高壓泵、反滲透裝置、中間水箱、PH 值調節、純水箱及反滲透膜清洗系統等組成。本單元脫鹽率可達到98%以上，并能將水中的細菌，膠體及大分子量的有機物大部分電解質去除。
3）、EDI 單元：純水泵、TOC 脫除器、精密過濾器、EDI 連續性電除鹽、EDI 電源等組成。用于進一步去除水中雜質、殘留鹽份及水中的金屬離子。
4）、拋光混床單元：4噸拋核子級樹脂
5）、供水單元：紫外線殺菌、精密過濾器組成，將純水輸送到使用點。
6）、電控及儀表單元：主要由電器控制柜（EDI 電源）、儀表儀器顯示盤、在線水質檢測顯示器、PLC邏輯控制及觸摸屏操作盤等組成。完成本系統的自動化控制、參數設置、信息儲存。
純水系統說明
本系統采用 PLC（可編程控制器）全自動控制。設備配置測量儀表，能直觀的顯示各級的壓力和流量，觸摸屏控制面板能夠直觀顯示兩級反滲透出水的電導率、EDI 出水的電阻率。采用三菱PLC 控制設備運行情況，有過載、超壓、缺水等故障保護和報警；設備總進水、總產水、總排水、原水電導率、一級、二級反滲透電導率及EDI 出水電阻率數值等能在設備主控界面上實時顯示并存儲。
