大連電子元件生產(chǎn)用超純水設備
EDI技術介紹：
EDI電去離子設備一般以反滲透（RO）純水作為EDI給水。RO純水電導率一般是40-2μS/cm（25℃)。EDI純水電阻率可以高達17MΩ.cm(25℃ )，但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)工藝、配置不同，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm (25℃)的超純水。
EDI設備特點：
1、產(chǎn)水水質(zhì)高且穩(wěn)定、連續(xù)
2、操作簡單、安全
3、不會因再生而停機
4、不需酸、堿化學藥劑再生
5、運行費用低于混床
6、占地面積小
7、無污水排放
8、容易實現(xiàn)全自動控制
大連電子元件生產(chǎn)用超純水設備
EDI進水水質(zhì)要求：
1、TEA (含CO2 ) <25mg/L as CaCO3，
2、PH值5－9，
3、總硬度<1 mg/L as CaCO3，
4、硅<0.5 mg/L，
5、TOC<0.5 mg/L，
6、余氯<0.05 mg/L，
7、Fe，Mn，H2S <0.01 mg/L，
8、電導率40-2μS/cm（25℃)
應用領域
1、電廠化學水處理
2、電子、半導體、精密機械行業(yè)超純水
3、精細化工、精尖學科用水
4、制藥工業(yè)工藝用水
5、其他行業(yè)所需的高純水制備
