x熒光光譜分析儀【深圳市云帆興燁科技有限公司 :,:】

XEPOS型x熒光光譜分析儀可廣泛應用于各種電子材料及塑料中鉛、鎘、（汞）等元素分析，檢出下限低，靈敏度高、穩定性好，可應對歐洲WEEE、RoHS指令。

功能

1.高信噪比： 250：1(P-P)，800：1(RMS)

SPECTRO XEPOS的高信噪比更有利于痕量樣品的測量，可以測出低至1 x 10-12mol/L的熒光素。

2. 機刻凹面衍射光柵F-2.2系列

   -  源于日立優異的衍射光柵刻制系統的高性能的單色器

   - 機刻光柵表面存在的閃耀角可以使光柵在紫外/可見光區有更高的衍射效率，提高此區域的光能量。

   - 凹面光柵同時具有分光和聚焦功能，這樣可以減少光路中的光學元件，提高整個系統的光能量。

3. 掃描速度快，可達60,000nm/min

4. 三維時間掃描熒光光譜追蹤監控化學反應過程顯示出來(新功能)

傳統熒光光譜儀很難實現化學反應監控，在1分鐘內發生的快速化學反應只能采用固定波長的方法進行監控，但SPECTRO XEPOS超高速的掃描速度可使這種測量輕松進行，在1秒之內可完成整個波長范圍的測量，所以它能夠跟蹤如此快速的反應過程。

5. 測量的濃度范圍高達6個數量級

具有自動增益轉變功能，唯有Hitachi熒光光譜儀使用的技術，使它可以使用濃度范圍高達6個數量級的數據生成校正曲線。未知樣品不需進行任何預處理就能進行定量分析。

6. 其他功能

●   自動預掃描功能，優化未知樣品的測量條件。

●   比例光度光源能量監控保證測量的穩定性。

●   采用水平狹縫設計提高測量靈敏度，液體僅需0.6ml（采用標準10mm比色池樣品池），粉末樣品10uL（采用微量粉末夾具）就可以完成測試

●   高分辨率多級狹縫，光譜分辨率為1nm。

●   切光器控制使樣品的光氧化小。

●   磷光分析和發光分析也是標準功能。

特點：

1、預置多條工作曲線，涵蓋金屬、PE、PVC、鋁鎂、焊錫、銅合金等基體類型可滿足用戶常規測量的要求；

2、提供開放式工作曲線平臺，用戶可以自由配置工作曲線以及任意添加標樣數據，以滿足更高測試度的要求，或適應環保指令的后期擴展；

3、人性化的軟件界面與操作方法，使用*圖形顯示技術，既方便又直觀；結合大量操作經驗優化操作步驟，*方便用戶；

4、精確的數據處理方式：以基本參數法為依據精確配置的濾光片系統大幅提高峰背比，結合一系列*的光譜處理方法，*提高特征譜線的檢出精度，以此為依據用經驗系數法再做進一步校正，使測試數據達到*的精密度和準確度；

5、數據管理：由數據庫支持的專業化報表生成、查詢打印、操作員分級*等功能*方便企業管理；

6、完善的安全連鎖功能：配合硬件電路的防護措施，在不安全的操作發生時自動切斷X射線確保操作員不受傷害;

7、智能化軟件保護，避免不當操作對光譜儀的損傷，延長儀器使用壽命。

技術指標：

1、精確度：該設備的測量精確度可達到或優于相關元素國家分析方法標準（GB/T4734-1996、QB/T 2578-2002）中對精確度的要求。

2、分析速度：從稱樣開始，2～3小時完成8個常規項目的化學成份分析全過程。4～5小時完成所有項目的分析。

3、一次聯測樣品數：9個

成套性：

1、測定儀主機一臺（GKF－IV型）；

2、數據處理系統一套；

3、6400A火焰光度計一套

4、銀坩堝二套（30ml／套）

5、*一臺（50W）；

工作環境：

1、環境溫度：5℃～35℃，

  相對濕度：≤85％

2、工作電源：220±22V，50Hz，

  裝機容量：3KVA