一、高純水設(shè)備（EDI）概述                    EDI高純水設(shè)備作為制取超純水的設(shè)備，作為反滲透設(shè)備后的二次除鹽設(shè)備，可以制取出高達(dá)10-18.2MΩ.CM。因此廣泛用于微電子工業(yè)，半導(dǎo)體工業(yè)，發(fā)電工業(yè)，制藥行業(yè)和實(shí)驗(yàn)室。也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產(chǎn)用水、發(fā)電廠的鍋爐的補(bǔ)給水，以及其它應(yīng)用高純水。
 二、高純水設(shè)備的本質(zhì)及原理
 
    EDI高純水設(shè)備將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元,EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開，形成濃水室,又在單元組兩端設(shè)置陰/陽電極,在直流電的推動(dòng)下，通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進(jìn)入到濃水室而在淡水室中去除,而通過濃水室的水將離子帶出系統(tǒng)。
    EDI高純水設(shè)備技術(shù)介紹：EDI電去離子設(shè)備一般以反滲透（RO）純水作為EDI給水。RO純水電導(dǎo)率一般是40-2μS/cm（25℃)。EDI純水電阻率可以高達(dá)17MΩ.cm(25℃)，但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)工藝、配置不同，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超純水。
三、EDI高純水設(shè)備的特點(diǎn)
 
  　1、可連續(xù)，穩(wěn)定地生產(chǎn)高品質(zhì)純水，無需因樹脂再生而停機(jī)；
    2、無污染物排放，既環(huán)保又省去了廢液處理的投資；
    3、設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，節(jié)省空間，同時(shí)還具有節(jié)能優(yōu)點(diǎn)；
    4、出廠完成裝置調(diào)試，現(xiàn)場工作量小，上崗培訓(xùn)容易；
    5、日常保養(yǎng)，操作簡單，勞動(dòng)強(qiáng)度低。
    6、脫鹽率大于99.9%，效率遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于兩級(jí)反滲透和單純的離子交換。
四、高純水設(shè)備的工藝流程
  
   （1）預(yù)處理→二級(jí)反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對(duì)象(≥18MΩ.CM)(工藝)
   （2）、預(yù)處理→二級(jí)級(jí)反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對(duì)象(≥17MΩ.CM)(工藝)
   （3）、預(yù)處理→二級(jí)反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對(duì)象(≥15MΩ.CM)(工藝)
   （4）預(yù)處理→一級(jí)反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對(duì)象(≥10MΩ.CM)(工藝)
 
五、高純水設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域
 
   1、電子、電力、電鍍、照明電器、實(shí)驗(yàn)室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗(yàn)、生物、制藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領(lǐng)域。
　2、化工工藝用水、化學(xué)藥劑、化妝品等用純水。
　3.單晶硅、半導(dǎo)體晶片切割制造、半導(dǎo)體芯片、半導(dǎo)體封裝 、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導(dǎo)電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元器件等生產(chǎn)工藝用純水。
　4.食品工業(yè)用水:飲用純凈水、礦泉水、資料、啤酒、乳業(yè)等。
　5.海水、苦咸水淡化:海島、艦船、高鹽堿地區(qū)生活用水改善。
　6.樓宇、社區(qū)優(yōu)質(zhì)供水:星級(jí)賓館、機(jī)場、房產(chǎn)物業(yè)純水網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)等。
　7.化工行業(yè)工藝用水:化工冷卻、化肥、化學(xué)藥劑制造。
　8.工業(yè)產(chǎn)品制造用水:汽車、家電涂裝、涂料、油漆、精細(xì)加工清洗等。
　9.電力行業(yè)鍋爐補(bǔ)給水:熱力、火力發(fā)電鍋爐、中、低壓鍋爐動(dòng)力系統(tǒng) 精細(xì)化工、精尖學(xué)科用水。