反滲透系統(tǒng)在正常運(yùn)行一段時(shí)間后，反滲透膜會(huì)受到在給水中可能存在的懸浮物質(zhì)或難溶物質(zhì)的污染，這些污染物中zui常見的為碳酸鈣垢、硫酸鈣垢、金屬氧化物垢、硅沉積物及有機(jī)或生物沉積物。污染物的性質(zhì)及污染速度與給水條件有關(guān)，污染是慢慢發(fā)展的，如果不早期采取措施，污染將會(huì)在相對(duì)短的時(shí)間內(nèi)損壞膜元件的性能。 1、污染物的去除 2、常見污染物及其去除方法：
污染物的去除可通過化學(xué)清洗和物理沖洗來實(shí)現(xiàn)，有時(shí)亦可通過改變運(yùn)行條件來實(shí)現(xiàn)，作為一般的原則，當(dāng)下列情形之一發(fā)生時(shí)應(yīng)進(jìn)行清洗。
1.1 在正常壓力下如產(chǎn)品水流量降至正常值的 10 ～ 15% 。
1.2 為了維持正常的產(chǎn)品水流量，經(jīng)溫度校正后的給水壓力增加了 10 ～ 15% 。
1.3 產(chǎn)品水質(zhì)降低 10 ～ 15% 。鹽透過率增加 10 ～ 15% 。
1.4 使用壓力增加 10 ～ 15%
1.5 RO 各段間的壓差增加明顯 （ 也許沒有儀表來監(jiān)測(cè)這一跡象 ） 。
在阻垢劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障時(shí)或加酸系統(tǒng)出現(xiàn)而導(dǎo)致給水 PH 升高，那么碳酸鈣就有可能沉積出來，應(yīng)盡早發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢沉淀的發(fā)生，以防止生長(zhǎng)的晶體對(duì)膜表面產(chǎn)生損傷，如早期發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢，可以用降低給水PH值至3.0 ～ 5.0之間運(yùn)行 1 ～ 2 小時(shí)的方法去除。
注：應(yīng)確保任何清洗液的 PH值不要低于 2.0 ，盃則可能會(huì) RO 膜元件造成損害，特別是在溫度較高時(shí)更應(yīng)注意，zui高的 PH 不應(yīng)高于 11.0 。
1、污染物的去除
污染物的去除可通過化學(xué)清洗和物理沖洗來實(shí)現(xiàn)，有時(shí)亦可通過改變運(yùn)行條件來實(shí)現(xiàn)，作為一般的原則，當(dāng)下列情形之一發(fā)生時(shí)應(yīng)進(jìn)行清洗。
1.1 在正常壓力下如產(chǎn)品水流量降至正常值的 10 ～ 15% 。
1.2 為了維持正常的產(chǎn)品水流量，經(jīng)溫度校正后的給水壓力增加了 10 ～ 15% 。
1.3 產(chǎn)品水質(zhì)降低 10 ～ 15% 。鹽透過率增加 10 ～ 15% 。
1.4 使用壓力增加 10 ～ 15%
1.5 RO 各段間的壓差增加明顯 （ 也許沒有儀表來監(jiān)測(cè)這一跡象 ） 。
2、常見污染物及其去除方法：
在阻垢劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障時(shí)或加酸系統(tǒng)出現(xiàn)而導(dǎo)致給水 PH 升高，那么碳酸鈣就有可能沉積出來，應(yīng)盡早發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢沉淀的發(fā)生，以防止生長(zhǎng)的晶體對(duì)膜表面產(chǎn)生損傷，如早期發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢，可以用降低給水PH值至3.0 ～ 5.0之間運(yùn)行 1 ～ 2 小時(shí)的方法去除。
注：應(yīng)確保任何清洗液的 PH值不要低于 2.0 ，盃則可能會(huì) RO 膜元件造成損害，特別是在溫度較高時(shí)更應(yīng)注意，zui高的 PH 不應(yīng)高于 11.0 。
