電子工業反滲透設備工藝流程

　　1、預處理•反滲透－水箱－陽床－陰床－混合床－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－精制混床－精密過濾器－用水對

　　2、預處理•一級反滲透－加藥機（PH調節）－中間水箱－第二級反滲透（正電荷反滲膜）－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象

　　3、預處理•二級反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象

　　4、預處理•二級反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－精制混床－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（工藝）

電子工業反滲透設備應用領域
　　•半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路；
　　•超純材料和超純化學試劑；
　　•實驗室和中試車間
　　•汽車、家電表面拋光處理；
　　•其他高科技精微產品。
 
水質標準
　　(符合美國ASTM標準，電子部超純水水質標準（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級)(符合美國ASTM標準，電子部超純水水質標準（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級)(符合美國ASTM標準，電子部超純水水質標準（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級)